Общая информация
Инновационные проекты
Объекты интеллектуальной собственности
Инновационные предложения
Выставки
Конкурсы
Мероприятия
ИТЦ НГТУ
+73833460291
fee@first.nstu.ru
630092
Новосибирск
пр.К.Маркса 20
I корп. 342
|
Сенсор давления с диэлектрической изоляцией
|
Сенсор предназначен для измерения давления и температуры в широком диапазоне.
Область применения: автомобильная, ракетно-космическая, нефтяная и газовая промышленность, а также в общетехнических измерениях.
В базовом кристалле использованы поликремниевые тензорезисторы и упругий элемент - мембрана. Толщина мембраны дифференцирована в зависимости от требуемой величины измеряемого давления.
В составе сенсора - тестовые структуры для измерения электрофизических параметров тензорезисторов и температуры.
Применена диэлектрическая изоляция.
Преимущества:
- Расширен температурный диапазон работы сенсоров до 3000C
- Хорошая временная стабильность характеристик сенсора из-за отсутствия токов утечки р-п-переходов.
|
|
|
Плазменная вакуумная электротехнология обработки порошковых материалов
|
Плазменная электротехнология обработки тугоплавких металлов (W, Mo, Ta, Nb) и сплавов на их основе позволяет получить порошковые материалы с заданными свойствами высокой рафинированностью, хорошо разветвленной поверхностью частиц и повышенной текучестью
Предназначена для производства чистых и сверхчистых (99,999%) мелкодисперсных и ультрадисперсных порошков ( толщина частиц получаемых порошков менее 1 мкм), используемых в производстве катализаторов и высокоемких малогабаритных конденсаторов, порошковой металлургии и аэрокосмической промышленности.
Уникальность данной технологии проявляется в:
- сокращении числа стадий химико-металлургических переделов обрабатываемого материала, что удешевляет себестоимость конечного продукта
- высокой интенсивности рафинировочных процессов исходных порошков, что обеспечивает высокую степень их очистки от примесей, в т.ч. от кислорода
- создании оптимальных технологических режимов, гарантирующих управляемость процессов обработки сырья и практически полную его переработку
Преимущества:
- изготовление карбидоподобных и нитридоподобных материалов, имеющих свойства лучше, чем существующие твердые сплавы;
- получение новых композиционных материалов;
- снижение массогабаритов конденсаторов, увеличение емкости и уменьшение токов утечки конденсаторов, выполненных на основе порошков тантала.
Разработка награждена
Серебряной медалью Сеульской Международной выставки изобретений “SIIF-2006” и
Золотой медалью Женевского Международного салона избретений, новой техники и продуктов “Geneva-2007”.
|
|
|
Технологии изготовления структур кремний на изоляторе Si/CaF2/Si
|
Многослойные “кремний-изолятор-кремний” структуры Si/CaF2/Si являются перспективным материалом для микро- и наноэлектроники.
Разработана технология получения гетероэпитаксиальной структуры “Кремний-На Фториде-Кальция” Si/CaF2/Si в замкнутом технологическом цикле.
При производстве интегральных схем число технологических процессов снижается более чем в два раза, что позволяет значительно снизить себестоимость процесса их изготовления.
Получаемые материалы обладают низким энергопотреблением, высокими быстродействием, радиационной стойкостью, степенью интеграции и надежностью.
Технология изготовления интегральных матричных фотоприемных устройств инфракрасного диапазона на основе многослойных структур PbSnTe/(Bа,Cа)F2/Si в монолитном исполнении позволяет получать их в замкнутом технологическом цикле.
Гетеросистема PbSnTe/Ba,CaF2/Si объединяет на одной кремниевой подложке схему обработки (микропроцессор) и слой PbSnTe обладающий фоточувствительными свойствами в области до 260 мкм.
Преимущества:
- уникальная радиационная стойкость схемы обработки и самого фоточувствительного материала;
- низкая себестоимость производства.
|
|
|
Комплекс технологий переработки и использования отходов ТЭС
|
Совместная разработка с ИК СОРАН
Комплекс технологий реализован на основе экономически привлекательных способов утилизации промышленных отходов и позволяет получать из золошлаковых отходов электростанций:
Комплекс включает рецептурные технологии, не требующие сложного оборудования и обеспечивающие получаемым материалам улучшенные характеристики.
Преимущества:
Производство материалов и изделий на основе золошлаковых отходов и их компонентов экономически эффективно за счёт:
- использования дешевого сырья,
- снижения экологической нагрузки на окружающую среду в районе полигонов золошлаковых отходов, в том числе вредных выбросов в воздушную (пыль) и водную среду,
- сокращения площадей дорогостоящих земельных участков, занятых под ЗШО в районе мегаполисов и экономии расходов на содержание золоотвалов.
|
|
Гончарная керамика
|
| содержание ЗШО (масс) | 20…60 % |
| температура формования | 20…30 оС |
| температура обжига | 950…1050 оС |
| прочность на сжатие | 6,0…8,0 МПа |
| водопоглощение | 10…50 % |
|
|
Керамические покрытия (глазури, эмали)
|
| содержание ЗШО (масс) | 10…90 % |
| температура сушки | 20…35 оС |
| температура обжига | 950…1000 оС |
| способ нанесения | окунание, пульверизация |
| содержание пигмента | 3…5 % масс |
| тип пигмента | неорганический |
|
|
Силикатные покрытия
|
| содержание ЗШО (масс) | 20…60 % |
| ассортимент цветов | не ограничен |
| тип пигмента | органический, неорганический |
| режим холодного отверждения: |
| температура | 20…35 оС |
| продолжительность | 200…500 час |
| режим горячего отверждения: |
| температура | 130…150 оС |
| продолжительность | 0,5…3 час |
| класс химической стойкости к растворам ПАВ (25 оС, 72 часа) | А |
| связующее | натриевое жидкое стекло |
| высолообразование (25 оС, 6 мес.) | отсутствует |
|
|
Поризованная керамика низкотемпературного обжига
|
| содержание ЗШО (масс) | 30…60 % |
| температура формования | 20…30 оС |
| температура обжига | 250…300 оС |
| прочность на сжатие | 5,0…5,5 МПа |
| пористость | 10…50 % |
| класс химической стойкости(25 оС, 72 часа) | А |
|
|
|
|